| 판형 | 긍정적 PS 플레이트 |
|---|---|
| 결의 | 300LPI에 있는 1-99% |
| (언베이크트) 런의 크기 | 50,000 내지 100,000 인상 |
| (구워진) 런의 크기 | 100,000 이상 인상 |
| 계측기 | 0.15 밀리미터, 0.20 밀리미터, 0.25 밀리미터, 0.30 밀리미터와 0.40 밀리미터 |
| (언베이크트) 런의 크기 | 50,000 내지 100,000 인상 |
|---|---|
| (구워진) 런의 크기 | 100,000 이상 인상 |
| 분광감도 | 320 - 405 nm |
| 결의안 | 300LPI에 있는 1-99% |
| 빛의 전력 | 3,000 - 5,000 Ｗ |
| 런의 크기 | 언베이크트 : 50000 내지 80,000 인상 ; 다음을 구웠습니다 100000 이상 인상 |
|---|---|
| 기판 | 화학적으로 입자화된 전기도금한 것과 양극 산화된 석판술 알루미늄 |
| 판형 | 긍정적 PS Plate/ 전통적 아날로그 플레이트 |
| 노광 에너지 | 80 - 180 mJ/cm2 |
| 결의안 | 2 - 98% 라인 퍼 인치 200 |
| 런의 크기 | 언베이크트 : 50000 내지 80,000 인상 ; 다음을 구웠습니다 100000 이상 인상 |
|---|---|
| 기판 | 화학적으로 입자화된 전기도금한 것과 양극 산화된 석판술 알루미늄 |
| 판형 | 긍정적 PS Plate/ 전통적 아날로그 플레이트 |
| 노광 에너지 | 80 - 180 mJ/cm2 |
| 결의안 | 2 - 98% 라인 퍼 인치 200 |
| 런의 크기 | 언베이크트 : 50000 내지 80,000 인상 ; 다음을 구웠습니다 100000 이상 인상 |
|---|---|
| 기판 | 화학적으로 입자화된 전기도금한 것과 양극 산화된 석판술 알루미늄 |
| 판형 | 긍정적 PS Plate/ 전통적 아날로그 플레이트 |
| 노광 에너지 | 80 - 180 mJ/cm2 |
| 결의안 | 2 - 98% 라인 퍼 인치 200 |
| 계기 | 0.15-0.4mm |
|---|---|
| 색 | 청색 |
| 운영하는 길이 | 50000-80000 느낌 |
| 사이즈 | 폭에서 1280mm를 초과하지 않기 |
| 노출 힘 | 80 - 180 mJ/m ² |
| 분류 | CTP 기계 |
|---|---|
| 소재 | 스테인리스 스틸 |
| 레이저 | 반도체 레이저 |
| 플레이트 | 열 플레이트 |
| 스펙트럼 | 830nm |
| 플레이트 유형 | 긍정적 PS 플레이트 |
|---|---|
| (언베이크트) 런의 크기 | 50000 - 100,000 출력 |
| (구워진) 런의 크기 | 100,000 이상 인상 |
| 분광감도 | 320 - 405 nm |
| 해결 | 300LPI에 있는 1-99% |
| 플레이트 유형 | 긍정적 PS 플레이트 |
|---|---|
| 해결 | 300LPI에 있는 1-99% |
| 분광감도 | 320 - 405 nm |
| (언베이크트) 런의 크기 | 50000 - 100,000 출력 |
| (구워진) 런의 크기 | 100,000 이상 인상 |
| 분류 | CTP 플레이트 |
|---|---|
| 런의 크기 | 미사도 : 50,000 ~ 80,000 인상; 구운 : 100,000 개가 넘는 인상 |
| 기판 | 화학적으로 입자화된 전기도금한 것과 양극 산화된 석판술 알루미늄 |
| 플레이트 유형 | 긍정적 PS Plate/ 전통적 아날로그 플레이트 |
| 노광 에너지 | 80 - 180 mJ/cm2 |
