| 제품 이름 | CTP 플레이트 프로세서 |
|---|---|
| 플레이트 사이즈 | 280-860 mm; 280-1100 mm; 280-1200 mm; 280-1500 mm |
| 플레이트 두께 | 0.15-0.4mm |
| 발전 능력 | 46/58/70/74/78L |
| 처리 속도 | 조정할 수 있는 (10 내지 60/2) 400-2400 밀리미터 / 분을 가속시키세요 |
| 이미지 레이저 다이오드 | 64CH |
|---|---|
| 결의안 | 2400dpi, 선택 1200dpi |
| 출력 속도 | 시간 당 28의 판 |
| Max.Plate 크기 | 1163*940mm |
| 판 간격 | 0.15-0.40mm |
| 적용 | 브랜드와 상표 |
|---|---|
| 판형 | 열 부식제, 디지털 물 세척 된 활자, 디지털 물 세척 곱셈, 디지털 용매 세척 플렉스 플렉스, 열 PS 플레이트 |
| 화상 처리 시스템 | 16/32채널 |
| 속도 | 1.25/2.5 m2 플레이트/시간 |
| 결의안 | 4000dpi |
| 종류 | 물 씻기 & 용매 씻기 모두 작동 |
|---|---|
| 형식 | 400mm, 600mm, 800mm 너비 선택 |
| 기능 | 노출, 씻기, 건조 및 제거 |
| 자동 | 그래요 |
| 플레이트 두께 | 0.15mm-5.50mm |
| 종류 | 물 씻기 & 용매 씻기 모두 작동 |
|---|---|
| 형식 | 400mm, 600mm, 800mm 너비 선택 |
| 기능 | 노출, 씻기, 건조 및 제거 |
| 자동 | 그래요 |
| 플레이트 두께 | 0.15mm-5.50mm |
| 종류 | 물 씻기 & 용매 씻기 모두 작동 |
|---|---|
| 형식 | 400mm, 600mm, 800mm 너비 선택 |
| 기능 | 노출, 씻기, 건조 및 제거 |
| 자동 | 그래요 |
| 플레이트 두께 | 0.15mm-5.50mm |
| 분류 | CTP 기계 |
|---|---|
| 소재 | 스테인리스 스틸 |
| 레이저 | 반도체 레이저 |
| 플레이트 | 열 플레이트 |
| 스펙트럼 | 830nm |
| 레이저 수로 | 48CH |
|---|---|
| 출력 속도 | 28pph |
| Max.Plate 크기 | 800X660 (mm), Min.: 260x300 (mm) |
| 판 선적과 내리기 | 설명서 |
| 정미중량 | 800kgs |
| 이미지 레이저 다이오드 | 64,48,32CH |
|---|---|
| 결의안 | 2400dpi, 선택 1200dpi |
| 출력 속도 | 시간 당 28의 판 |
| Max.Plate 크기 | 1163*940mm |
| 판 간격 | 0.15-0.40mm |
