| 종류 | 물 씻기 & 용매 씻기 모두 작동 |
|---|---|
| 형식 | 400mm, 600mm, 800mm 너비 선택 |
| 기능 | 노출, 씻기, 건조 및 제거 |
| 자동 | 그래요 |
| 플레이트 두께 | 0.15mm-5.50mm |
| 레이저 채널 | 48CH |
|---|---|
| 출력 속도 | 22pph |
| Max.Plate 사이즈 | 1163X940 ((mm) |
| 판의 부하 및 부하 | 반자동, 수동 |
| 순중량 | 900KGS |
| 분류 | CTP 기계 |
|---|---|
| 이미징 시스템 | 825nm 레이저 |
| 반복성 | 0.01mm |
| 처리량 (/ 시간을 도금처리합니다) | 35; 35; 45; 45; 55, 1030mm x 800mm, 2400dpi, Plate sensitivity 120mj/ |
| 플레이트 크기 | 최대 1163mm x 940mm; 최소 400mm x 300mm |
| 레이저 수로 | 32CH |
|---|---|
| 출력 속도 | 16pph |
| Max.Plate 크기 | 1163X940 (mm) |
| 판 선적과 내리기 | 자동 장전식, 수동 |
| 정미중량 | 900kgs |
| 소재 | 스테인리스 스틸 |
|---|---|
| 분류 | 외부 드럼 |
| 광원 | 반도체 레이저 |
| 결의 | 2400dpi |
| 상표 | EcooGraohix |
| Classification | UV CTP Machine |
|---|---|
| 화상 처리 시스템 | 48-채널 ; 32-채널 ; 24-채널 |
| 처리량 | 800 밀리미터 × 660 밀리미터, 2400dpi 다음 28이지 플레이트 / 시간 ; 22가지 플레이트 / 시간 ; 16이지 플레이트 / 시간 |
| Repeatability | ± 5μm(Continuous exposing for 4 times or above on the same plate with a temperature of 23℃ and humidity of 60%) |
| Power Supply | Single-phase: 220AC, +6%, -10%, Power Consumption: 4KW |
| 레이저 채널 | 32CH,48CH,64CH |
|---|---|
| 출력 속도 | 16pph, 22pph, 28pph |
| Max.Plate 사이즈 | 800X690(mm) |
| 조건 | 새것 또는 사용 가능 |
| 결의 | 선택적인 2400dpi,1200dpi |
| Max.Plate 사이즈 | 280-1500mm |
|---|---|
| 발전 능력 | 72L,58L,46L |
| 상태 | 새로운 |
| 기계 크기 | 1500x1400x1100mm |
| 순 중량 | 350kgs |
| 결의안 | 2400 dpi |
|---|---|
| 속도 | 16/22/28의 pph |
| 레이저 체계 | 다이오드 32/48/64 |
| 레이저 파장 | 400-410nm |
| 최대 판 크기 | 1130mm*920mm |
| 상품 이름 | 개발 기계 |
|---|---|
| 플레이트 두께 | 0.15-0.4mm |
| 처리 속도 | 조정할 수 있는 (10 내지 60/2) 400-2400 밀리미터 / 분을 가속시키세요 |
| 플레이트 사이즈 | 맥스 폭 : 1500 밀리미터 민 길이 : 300 밀리미터 |
| 발전 능력 | 46/58/70/78L |
