| Classification | CTP Machine |
|---|---|
| Imaging System | 128-channel |
| 처리량 | 1470mm x 1180mm/ 2400dpi: 27장/시간 |
| 반복 가능성 | ± 5μm ((동일한 판에서 23°C의 온도와 60%의 습도에서 4번 이상 연속적으로 노출) |
| Power Supply | Single phase: 220AC-240AC, Power Consumption: 5.5KW |
| Max.Paper 크기 | (L) 600× (W) 520 |
|---|---|
| Max.Window 크기 | (L) 400× (W) 400 |
| 기계 크기 | (L) 4500× (W) 1500× (H) 1700년 |
| 영화 간격 | 0.03-0.2µm |
| 용지 두께 | 마분지: 주름을 잡는 200gr/m2~2.000gr/m2 - 널: 마이크로 flute~6mm 간격에서 |
| 제품 이름 | CTP 플레이트 프로세서 |
|---|---|
| 플레이트 사이즈 | 280-860 mm; 280-1100 mm; 280-1200 mm; 280-1500 mm |
| 플레이트 두께 | 0.15-0.4mm |
| 발전 능력 | 46/58/70/74/78L |
| 처리 속도 | 조정할 수 있는 (10 내지 60/2) 400-2400 밀리미터 / 분을 가속시키세요 |
| 기계 종류 | CTP 플레이트 프로세서 |
|---|---|
| 페이지 사이즈(MM) | 280-860; 280-1100; 280-1200; 290-1500 |
| 처리 속도 | 조정할 수 있는 (10 내지 60 초) 400-1000 밀리미터 / 분을 가속시키세요 |
| 플레이트 두께 | 0.15-0.4mm |
| 발전 능력 | 46L ; 58L ; 70L ; 78L |
| 민 폭 | 폭에서 280 밀리미터 |
|---|---|
| 플레이트 두께 | 0.15-0.4mm |
| 처리 속도 | 조정할 수 있는, 400-1000 밀리미터 / 미니우테 |
| 온도 | 10-45 급 |
| 자동적인 레벨 | 높은 자동장치 |
| 민 폭 | 폭에서 280 밀리미터 |
|---|---|
| 플레이트 두께 | 0.15-0.4mm |
| 처리 속도 | 조정할 수 있는, 400-1000 밀리미터 / 미니우테 |
| 온도 | 10-45 급 |
| 자동적인 레벨 | 높은 자동장치 |
| 상품 이름 | 열 CTP 원판처리 기계 |
|---|---|
| 플레이트 두께 | 0.15-0.4mm |
| 처리 속도 | 조정할 수 있는 (10 내지 60/2) 400-2400 밀리미터 / 분을 가속시키세요 |
| 플레이트 사이즈 | 맥스 폭 : 1500 밀리미터 민 길이 : 300 밀리미터 |
| 발전 능력 | 46/58/70/78L |
| 제품 이름 | CTP 플레이트 프로세서 |
|---|---|
| 플레이트 두께 | 0.15-0.4mm |
| 플레이트 사이즈 | Max.1130mm Ｘ 920 밀리미터 Min.400mm Ｘ 300 밀리미터 |
| 처리 속도 | 조정할 수 있는 (10 내지 60/2) 400-2400 밀리미터 / 분을 가속시키세요 |
| 발전 능력 | 46/58/70/78L |
