| 레이저 수로 | 48CH |
|---|---|
| 출력 속도 | 28pph |
| Max.Plate 크기 | 800X660 (mm), Min.: 260x300 (mm) |
| 판 선적과 내리기 | 설명서 |
| 정미중량 | 800kgs |
| 레이저 수로 | 32CH,48CH,64CH,128CH |
|---|---|
| 출력 속도 | 16pph, 22pph, 28pph |
| Max.Plate 크기 | 800X690 (mm) |
| 상태 | 새로운 사용된 유효한 |
| 결의안 | 2400dpi, 선택 1200dpi |
| 기계 종류 | UV-CTP 플레이트 기계 |
|---|---|
| 매체 유형 | 긍정적 UV-CTP 플레이트, 고감도 PS 플레이트 |
| 화상 처리 시스템 | 64CH, 48CH, 32CH, 부품 400-410nm 레이저 다이오드 |
| 처리량 | 28PPH, 22PPH, 16PPH, 1030 밀리미터 Ｘ 800 밀리미터, 2400dpi |
| 반복 가능성 | ± 5 μm (온도가 23 ℃이고 습도가 60%인 동일한 플레이트에서 4 배 이상의 연속 노출) |
| 상품 이름 | 대단히 자동 열 CTP 기계 |
|---|---|
| 노출 방법 | 외부 드럼 |
| 화상 처리 시스템 | 825nm 레이저 |
| 전부 | 25가지 플레이트 / 시간 ; 2400dpi세 800 Ｘ 660 밀리미터는 민감도 120mj/cm2를 도금처리합니다 |
| 플레이트 사이즈 | Max.800mm Ｘ 660 밀리미터 Min.300mm Ｘ 300 밀리미터 |
| 분류 | UV CTP 기계 |
|---|---|
| Imaging System | 64-channel; 48-channel; 32-channel |
| Throughput(plates/hour) | 1030mm x 800mm, 2400dpi: 28; 22; 16 |
| 반복 가능성 | ± 5μm ((동일한 판에서 23°C의 온도와 60%의 습도에서 4번 이상 연속적으로 노출) |
| Power Supply | Single-phase: 220AC, +6%, -10%, Power Consumption: 4KW |
| 화상 처리 시스템 | 64채널 |
|---|---|
| 처리량 | 60이지 플레이트 / 시간, 381 밀리미터 Ｘ 578 밀리미터, 1200dpi |
| 반복성 | ±5μm (4 번 동안 또는 위쪽에 23C의 온도와 60%의 습도와 똑같은 플레이트에 연속적인 노출) |
| 전원 공급기 | 단일 상 : 220AC, + 6%, - 10%, 소비 전력 : 4KW |
| 플레이트 사이즈 | 맥스. 1130 밀리미터 Ｘ 920 밀리미터, 민. 300 밀리미터 Ｘ 260 밀리미터 |
| Classification | CTP Machine |
|---|---|
| 화상 처리 시스템 | 825nm 레이저 |
| Repeatability | 0.01mm |
| 처리량 (/ 시간을 도금처리합니다) | 35; 35; 45; 45; 55, 1030mm x 800mm, 2400dpi, Plate sensitivity 120mj/ |
| Plate Size | Max. 1163mm x 940mm; Min. 400mm x 300mm |
| 모델 | T400Q |
|---|---|
| 속도 | 20/25/30 PPH |
| 맥스. 사이즈 | 800mm*660mm |
| 적용된 플레이트 | 열 CTP 플레이트 |
| 특징 | 인라인 펀치, 없이 자동 로더로 |
| 이름 | CTP 제판 기 |
|---|---|
| 레이저 채널 | 64 |
| 출력 속도 | 10PPH |
| Max.Plate 크기 | 1680X1350 (mm) |
| 결의안 | 2400dpi |
| Max.Plate 크기 | 280-1550mm |
|---|---|
| 상태 | 새롭습니다 |
| 기계 사이즈 | 1500x1400x1100mm |
| 정미중량 | 350kgs |
| 전원 공급기 | 220V |
