매체 유형 | 긍정적 열 CTP 플레이트 |
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기계 사이즈 (WxLxH)MM | 2127 X 1610 X 1058 |
화상 처리 시스템 (채널) | 64CH/ 48CH/ 32CH, 분리된 830nm 레이저 다이오드 |
처리량 (Plates/Hour) | 28pph/ 22pph/ 16pph, 1030 밀리미터 X 800 밀리미터, 2400dpi |
플레이트 두께 | 0.15 밀리미터 내지 0.30 밀리미터 |
판형 | 열 CTP 플레이트 |
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(언베이크트) 런의 크기 | 80,000~100,000회 노출 |
(구워진) 런의 크기 | 100,000 이상 인상 |
노광 에너지 | 90 - 120 mj/ 평방 센티미터 |
코팅 | 단층 시스템, 민감한 IR, 긍정적 연기 |
기계 종류 | CTP 기계 |
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화상 처리 시스템 (채널) | 64CH/ 48CH/ 32CH, 분리된 830nm 레이저 다이오드 |
처리량 (Plates/Hour) | 28pph/ 22pph/ 16pph, 1030 밀리미터 X 800 밀리미터, 2400dpi |
매체 유형 | 긍정적 열 CTP 플레이트 |
플레이트 두께 | 0.15 밀리미터 내지 0.30 밀리미터 |
매체 유형 | 긍정적 열 CTP 플레이트 |
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기계 사이즈 (WxLxH)MM | 2127 X 1610 X 1058 |
화상 처리 시스템 (채널) | 64CH/ 48CH/ 32CH, 분리된 830nm 레이저 다이오드 |
처리량 (Plates/Hour) | 28pph/ 22pph/ 16pph, 1030 밀리미터 X 800 밀리미터, 2400dpi |
플레이트 두께 | 0.15 밀리미터 내지 0.30 밀리미터 |
분류 | CTP 기계 |
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처리량 (/ 시간을 도금처리합니다) | 25가지 플레이트 / 시간 |
플레이트 민감도 | 800 X 660 밀리미터, 2400dpi, 120mj/cm2 |
플레이트 사이즈 | Max. 최대. 800mm x 660mm, Min. 800mm x 660mm, 최소. 300mm x 300mm |
결의 | 표준 : 2400 dpi 또는 1200 dpi |
분류 | CTP 기계 |
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화상 처리 시스템 | 256개 채널 |
처리량 | 1030 밀리미터 X 800 밀리미터, 2400dpi |
반복 가능성 | ± 5μm ((동일한 판에서 23°C의 온도와 60%의 습도에서 4번 이상 연속적으로 노출) |
전원 공급 | 단일 단계: 220AC, +6%, -10%, 전력 소비: 4KW |
Classification | UV CTP Machine |
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화상 처리 시스템 | 64개 채널 ; 48개 채널 ; 32개 채널 |
Throughput(plates/hour) | 1030mm × 800mm, 2400dpi: 28; 22; 16 |
Repeatability | ± 5μm(Continuous exposing for 4 times or above on the same plate with a temperature of 23℃ and humidity of 60%) |
전원 공급 | 단일-위상 : 220AC, +6%, -10%, 소비 전력 : 4KW |
매체 유형 | 열 CTP 플레이트 |
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화상 처리 시스템 | 64CH |
전부 | 16은 / 시간을 도금처리합니다 |
결의 | 2400dpi |
플레이트 사이즈 | 맥스. 1470 밀리미터 X 1180 밀리미터 ; 민. 300 밀리미터 X 400 밀리미터 |
상품 이름 | 컴퓨터가 성형기를 도금처리합니다 |
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노출 방법 | 외부 드럼 |
플레이트 사이즈 | 660 밀리미터 민 Max.800mm X. 400 밀리미터 X 300 밀리미터 |
플레이트 두께 | 0.15 밀리미터 내지 0.30 밀리미터 |
결의안 | 2400dpi |
상품 이름 | 자동 판 제작기계 |
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노출 방법 | 드럼의 밖에 |
플레이트 사이즈 | Max.1163mm*940mm Min.300mm*400mm |
플레이트 두께 | 0.15 밀리미터 내지 0.30 밀리미터 |
결의안 | 2400dpi |