| 주행 길이 | 언베이크트 200,000 인상 ; 언베이크트 UV 잉크와 70,000 인상 ; 1,000,000 인상은 구워졌습니다 |
|---|---|
| 노광 에너지 | 50-65uj/cm2 (판 세트와 현상 조건을 기반으로) |
| 분광감도 | 405 nm |
| 결의안 | 200 라인 퍼 인치와 20 우프텀에 있는 1-99% |
| 개발 시간 | 20±3 초 |
| Classification | UV CTP Machine |
|---|---|
| Exposing Method | External drum |
| Imaging System | 64ch; 48ch; 32ch, discrete 405nm laser diode |
| Throughout(Plates/Hour) | 28; 22; 16, 1030mm x 800mm, 2400dpi |
| Resolutions | 2400dpi |
| 처리 속도 | 0.8-1.2는 / 분을 잽니다 |
|---|---|
| 분광감도 | 400-410nm |
| 런의 크기 | 언베이크트 :구워진 80,000 내지 100,000 인상 : 100,000 이상 인상 |
| 판 세트 | 루셔, 바스리스프린트, 크론, 에코오그래프이스 |
| 노광 에너지 | 50-70 mj/cm2 |
| 기계 유형 | UV CTP 기계 |
|---|---|
| 이미징 시스템 | 64CH, 48CH, 32CH, 부품 400-410nm 레이저 다이오드 |
| 처리량 | 28PPH, 22PPH, 16PPH, 1030mm × 800mm, 2400dpi |
| 해결 | 2400dpi (선택 : 1200dpi) |
| 판 두께 | 0.15 밀리미터 내지 0.30 밀리미터 |
| 기계 유형 | CTCP 기계 |
|---|---|
| 이미징 시스템 | 128개 채널, 부품 400-410nm 레이저 다이오드 |
| 처리량 | 45PPH, 1030 밀리미터 Ｘ 800 밀리미터, 2400dpi |
| 플레이트 사이즈 | 맥스. 1163 밀리미터 Ｘ 940 밀리미터, 민. 300 밀리미터 Ｘ 400 밀리미터 |
| 미디어 유형 | 긍정적 UV-CTP 플레이트, 고감도 PS 플레이트 |
| 플레이트 종류 | CTCP 플레이트 |
|---|---|
| 처리 속도 | 0.8-1.2는 / 분을 잽니다 |
| 런의 크기 | 언베이크트 : 80,000 내지 100,000 인상 ; 다음을 구웠습니다 100,000 이상 인상 |
| 판 세트 | 루셔, 바스리스프린트, 크론, 에코오그래프이스 |
| 노출 에너지 | 50-70 mj/cm2 |
| 판형 | CTCP 플레이트 |
|---|---|
| 처리 속도 | 0.8-1.2는 / 분을 잽니다 |
| 런의 크기 | 언베이크트 : 80,000 내지 100,000 인상 ; 다음을 구웠습니다 100,000 이상 인상 |
| 판 세트 | 루셔, 바스리스프린트, 크론, 에코오그래프이스 |
| 노광 에너지 | 50-70 mj/cm2 |
| 판형 | CTCP 플레이트 |
|---|---|
| 처리 속도 | 0.8-1.2는 / 분을 잽니다 |
| 런의 크기 | 언베이크트 : 80,000 내지 100,000 인상 ; 다음을 구웠습니다 100,000 이상 인상 |
| 판 세트 | 루셔, 바스리스프린트, 크론, 에코오그래프이스 |
| 노광 에너지 | 50-70 mj/cm2 |
| 이미지 레이저 다이오드 | 128CH |
|---|---|
| 결의안 | 2400dpi, 선택 1200dpi |
| 출력 속도 | 시간 당 44Plates |
| Max.Plate 크기 | 1163*940mm |
| 판형 | 405nm 긍정적인 CTCP 판 또는 높은 과민한 PS 판 |
| Machine Type | UV-CTP plate machine |
|---|---|
| Media Type | Positive UV-CTP plate, high-sensitive PS plate |
| Imaging System | 64CH, 48CH, 32CH, Discrete 400-410nm laser diode |
| Throughput | 28pph, 22pph, 16pph, 1030mm × 800mm, 2400dpi |
| Repeatability | ± 5 μm(Continuous exposing for 4 times or above on the same plate with a temperature of 23℃ and humidity of 60%) |
