| 모델 | VLF 협약 CTP |
|---|---|
| 속도 | 최대. 시간 당 18 조각 |
| 최대. 판 크기 | 1680MM*1350MM |
| min. Plate 크기 | 650mm*550mm |
| 이미지 체계 | 400-410 nm의 128의 다이오드 |
| 유형 | CTP 플레이트 프로세서 |
|---|---|
| 페이지 크기(mm) | 280-860; 280-1100; 280-1200; 290-1500 |
| 처리 속도 | 속도 조절 가능(10~60초) 400~1000mm/분 |
| 판 두께 | 0.15-0.4mm |
| 역량 개발 | 46L; 58L; 70L; 78L |
| 기계 유형 | CTCP 기계 |
|---|---|
| 플레이트 사이즈 | 맥스. 1163 밀리미터 Ｘ 940 밀리미터, 민. 400 밀리미터 Ｘ 300 밀리미터 |
| 이미징 시스템 | 64CH ; 4CH ; 32CH |
| (Plates/Hour) 전체에 걸쳐 | 28; 22; 16, 부품 405nm 레이저 다이오드 |
| 결의안 | 2400dpi |
| 제품 난메 | 이중 레이어 트크피 / UV 플레이트 |
|---|---|
| 판형 | 긍정적 CTCP 플레이트 (이중 레이어) |
| 적용 | 고급 품질 광고와 신문 인쇄 |
| 기판 | 화학적으로 입자화된 전기도금한 것과 양극 산화된 석판술 알루미늄 |
| 계측기 | 0.15, 0.20, 0.25, 0.30, 0.40 (밀리미터) |
| 제품 이름 | CTP 플레이트 프로세서 |
|---|---|
| 플레이트 두께 | 0.15-0.4mm |
| 처리 속도 | 조정할 수 있는 (10 내지 60/2) 400-2400 밀리미터 / 분을 가속시키세요 |
| 플레이트 사이즈 | 맥스 폭 : 1500 밀리미터 민 길이 : 300 밀리미터 |
| 발전 능력 | 46/58/70/78L |
| 제품 이름 | 공정 없는 화학 자유 오프셋 인쇄 부정적 DOP CTP 판 |
|---|---|
| 판형 | 비절제 열식 부정적 타입 |
| 적용 | 고급 광고와 신문 인쇄 |
| 기판 | 전해액 결정화와 양극 산화된 알루미늄 기판 |
| 스펙트럼 범위 | 800-850nm |
| 기계 종류 | CTP 기계 |
|---|---|
| 화상 처리 시스템 | 16CH |
| 처리량 | 시간 당 1.25 스큐텀 |
| 맥스. 폭 | 맥스. 430 밀리미터 Ｘ 330 밀리미터 |
| 플레이트 두께 | 0.14 밀리미터 내지 1.7 밀리미터 |
| 기계 종류 | CTP 기계 |
|---|---|
| 화상 처리 시스템 | 16CH |
| 처리량 | 시간 당 1.25 스큐텀 |
| 맥스. 폭 | 맥스. 430 밀리미터 Ｘ 330 밀리미터 |
| 플레이트 두께 | 0.14 밀리미터 내지 1.7 밀리미터 |
| 출력 속도 | 3/5m2/시간 |
|---|---|
| Max.Breadth | 48"×35"/1200mm×1020mm |
| 레이저 채널 | 256CH |
| 플레이트 두께 | 0.14-2.84 (mm) |
| 결의 | 4000dpi, 옵션: 2540dpi |
| 분류 | UV CTP 기계 |
|---|---|
| 이미징 시스템 | 64채널 |
| 처리량 | 1470mm × 1180mm/ 2400dpi: 16장/시간 |
| 반복성 | ± 5μm ((동일한 판에서 23°C의 온도와 60%의 습도에서 4번 이상 연속적으로 노출) |
| 전원공급장치 | 단일-위상 : 220AC-240AC, 소비 전력 : 5.5KW |
