| 화상 처리 시스템 | 48-채널 ; 32-채널 ; 24-채널 |
|---|---|
| 처리량 | 800 밀리미터 × 660 밀리미터, 2400dpi 다음 28이지 플레이트 / 시간 ; 22가지 플레이트 / 시간 ; 16이지 플레이트 / 시간 |
| 반복 가능성 | ±5um (4 번 동안 또는 위쪽에 23C의 온도와 60%의 습도와 똑같은 플레이트에 연속적인 노출) |
| 전원 공급 | 단일-위상 : 220AC, +6%, -10%, 소비 전력 : 4KW |
| 플레이트 사이즈 | 최대 800mm × 690mm, 최소 400mm × 300mm |
| 매체 유형 | 긍정적 열 CTP 플레이트 |
|---|---|
| 기계 사이즈 (WxLxH)MM | 2127 Ｘ 1610 Ｘ 1058 |
| 화상 처리 시스템 (채널) | 64CH/ 48CH/ 32CH, 분리된 830nm 레이저 다이오드 |
| 처리량 (Plates/Hour) | 28pph/ 22pph/ 16pph, 1030 밀리미터 Ｘ 800 밀리미터, 2400dpi |
| 플레이트 두께 | 0.15 밀리미터 내지 0.30 밀리미터 |
| 제품 이름 | UV/Ctcp 플레이트 제작기 |
|---|---|
| 플레이트 사이즈 | Max.800mm Ｘ 660 밀리미터 Min.300mm Ｘ 300 밀리미터 |
| 매체 유형 | 긍정적 UV-CTP / CTCP 플레이트 또는 높은 민감한 PS 플레이트 |
| 화상 처리 시스템 | 48개 채널 |
| 전부 | 시간당 28개의 접시 |
| 기계 종류 | CTP 기계 |
|---|---|
| 화상 처리 시스템 (채널) | 64CH/ 48CH/ 32CH, 분리된 830nm 레이저 다이오드 |
| 처리량 (Plates/Hour) | 28pph/ 22pph/ 16pph, 1030 밀리미터 Ｘ 800 밀리미터, 2400dpi |
| 매체 유형 | 긍정적 열 CTP 플레이트 |
| 플레이트 두께 | 0.15 밀리미터 내지 0.30 밀리미터 |
| 기계 종류 | CTP 기계 |
|---|---|
| 플레이트 민감도 | 120mj/Square 센티미터 |
| 전부 | 25 플레이트 / 시간, 800 Ｘ 660 밀리미터, 2400dpi |
| 플레이트 사이즈 | 맥스. 800 밀리미터 Ｘ 660 밀리미터, 민. 270 밀리미터 Ｘ 270 밀리미터 |
| 반복 가능성 | 00.01mm |
| 매체 유형 | 긍정적 열 CTP 플레이트 |
|---|---|
| 기계 사이즈 (WxLxH)MM | 2127 Ｘ 1610 Ｘ 1058 |
| 화상 처리 시스템 (채널) | 64CH/ 48CH/ 32CH, 분리된 830nm 레이저 다이오드 |
| 처리량 (Plates/Hour) | 28pph/ 22pph/ 16pph, 1030 밀리미터 Ｘ 800 밀리미터, 2400dpi |
| 플레이트 두께 | 0.15 밀리미터 내지 0.30 밀리미터 |
| 기계 종류 | CTP 기계 |
|---|---|
| 결의 | 2400dpi |
| 플레이트 사이즈 | 맥스. 1470 밀리미터 Ｘ 1180 밀리미터 ; 민. 300 밀리미터 Ｘ 400 밀리미터 |
| 화상 처리 시스템 | 64CH |
| 출력 속도 | 16은 / 시간을 도금처리합니다 |
| 레이저 채널 | 48CH |
|---|---|
| 출력 속도 | 22pph |
| Max.Plate 사이즈 | 1163X940 ((mm) |
| 판의 부하 및 부하 | 반자동, 수동 |
| 순중량 | 900KGS |
| 제품 이름 | CTP 플레이트 프로세서 |
|---|---|
| 플레이트 두께 | 0.15-0.4mm |
| 플레이트 사이즈 | Max.1130mm Ｘ 920 밀리미터 Min.400mm Ｘ 300 밀리미터 |
| 처리 속도 | 조정할 수 있는 (10 내지 60/2) 400-2400 밀리미터 / 분을 가속시키세요 |
| 발전 능력 | 46/58/70/78L |
| 레이저 채널 | 48CH |
|---|---|
| 출력 속도 | 22pph |
| Max.Plate 사이즈 | 1163X940 ((mm) |
| 판의 부하 및 부하 | 반자동, 수동 |
| 순중량 | 900KGS |
